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氢氟酸(Hydrofluoric，HF)，相对分子量20.1，为无色透明液体，强酸性；其对金属、玻璃有强烈的腐蚀性，为剧毒。氢氟酸密度(25℃)为1.13g/Ml(40重量％)。而超高纯氢氟酸为强酸性清洗、腐蚀剂，可与硝酸、冰乙酸、过氧化氢和氢氧化铵等配合使用，主要用于超大规模集成电路工艺技术的生产。

    目前普遍采用的氢氟酸的提纯装置是：将工业无水氟化氢直接投入精馏塔中，再在精馏塔中加高锰酸钾后精馏纯化，经吸收塔吸收后得到一种纯化氟化氢。该装置生产的氢氟酸最大的缺点是氢氟酸的纯度不高，产量低，吸收塔吸收性能差，部分没有被充分吸收的氢氟酸气体被排放到空气中给环境造成污染。

内容:

    本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种产品纯度高，产量高，符合环保要求的超高纯氢氟酸的提纯装置。

    本实用新型的目的是这样实现的：一种超高纯氢氟酸的提纯装置，包括原料槽、氧化处理器I、过滤器I、氧化处理器II、过滤器II、精馏塔、冷却器、过滤器、吸收塔、微滤器和成品接收器，所述原料槽出口与氧化处理器I进口连接，所述氧化处理器I出口与过滤器I进口相连，所述过滤器I出口与氧化处理器II进口相连，所述氧化处理器II出口与过滤器II进口相连，所述过滤器II出口与精馏塔进口相连，所述精馏塔出口与冷却器进口相连，所述冷却器出口与过滤器进口相连，所述过滤器出口与吸收塔进口相连，所述吸收塔出口与微滤器进口相连，所述微滤器出口与成品接收器进口相连。

    本实用新型超高纯氢氟酸的提纯装置，所述吸收塔底部设置布气盘管。本实用新型超高纯氢氟酸的提纯装置，所述微滤器的微滤膜孔径为0.05～0.15μm。

    本实用新型超高纯氢氟酸的提纯装置利用两次氧化装置充分利用氧化剂高锰酸钾和过氧化氢的有效配合，将工业无水氟化氢中的二氧化硫和三氟化砷杂质彻底氧化，加强了二氧化硫和三氟化砷杂质的分离，使难以挥发的杂质在精馏过程中不被带出而存积于釜底另外排除，这样，既提高了产品的纯度又实现了环保生产。

    本实用新型采用的吸收塔能充分完全地吸收氟化氢气体，其原理是：由原来的利用吸收管下端的小孔来吸收气体，吸收效果差，改为现在的利用吸收塔底部的布气盘管来释放气体，提高了吸收塔的吸收均匀度和大大加强了吸收效率，产量增大3倍，并接近100％完全吸收。

    综上所述，本实用新型超高纯氢氟酸的提纯装置与目前的制备装置相比较有如下优点：

    1、通过高锰酸钾和过氧化氢两次氧化的作用和冷却器的冷却及过滤作用，彻底解决了三价砷等杂质不易除去这一难题，从而使产品纯度大大提高，使制成的超高纯氢氟酸达到半导体SEMI-C12标准，完全满足超大规模集成电路的制造。具体指标如下：颗粒度0.3μm≤100个，纯度：阳离子≤30ppb，阴离子≤0.05ppb。

    2、吸收塔能充分完全吸收被精馏纯化以后的超高纯氟化氢气体，在提高吸收效率的同时也大大提高了产量，同时避免了部分没有被充分吸收的氟化氢气体泄露到空气中，给环境造成污染，符合环保节能要求。

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