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电子级氢氟酸用于半导体行业

详细介绍:

电子级氢氟酸,半导体行业的血脉
半导体制造业目前有两种蚀刻技术,干式蚀刻和湿式蚀刻

1、干式蚀刻 - 优点 精度高,安全。缺点 常能抵 成本高

2、湿式蚀刻 - 优点 便宜,产能高。缺点 精度低,危险性高,不宜长期库存。

氟化氢就应用于湿式蚀刻。因为价格便宜,高产能,所以相对干式蚀刻节省成本。所以韩国半导体厂商一直都从日本进口即买即用的氟化氢。

目前,日本自己称只是取消了亚洲唯一的优惠国待遇,现在一视同仁,但不排除日本故意刁难,审核超过90天,影响工厂正常运作。所以将来要么补助本国佛化氢企业提高产能,要么转向干式蚀刻制造半导体。

其实半导体工业大趋势也是干式蚀刻,随着将来7纳米的量产以及需求更高精度半导体制造技术,湿式蚀刻慢慢将被干式取代。


电子级氢氟酸主要应用于半导体制造过程的清洗和刻蚀等工序,它的纯度和洁净度对集成电路的良品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。

电子级氢氟酸可被分为EL、UP、UP-S、UP-SS、UP-SSS等级别。其中UP-SSS级别(相当于SEMI G5质量标准)的氢氟酸纯度最高,是12寸晶圆及更高规格的电子半导体产品制造环节必须用到的关键材料。
发表日期:2021/5/27  浏览次数:1002