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在液晶面板和玻璃基板减薄刚兴起之时，行业中主要通过单一氢氟酸兑RO水进行稀释后与玻璃反应。随着减薄厚度不断增加，以及玻璃材质的多样化等薄化要求提升，在行业实际操作中发现，仅靠原有的单一氢氟酸已经不能满足现在对液晶面板和玻璃基板的化学蚀刻要求。其主要问题反映在以下几个方面：

1、氢氟酸受温度变化影响大，导致蚀刻效率不稳定性的变化，不易控制蚀刻过程。

2、容易与SiO2反应产生白色的硅酸盐结晶等难溶物质，并且该物质容易悬浮在蚀刻液中，以及粘附与蚀刻设备管道中，严重影响蚀刻设备的运行和蚀刻液的循环利用。

3、难溶杂质粘附蚀刻产品表面易导致表面和边缘产生不良凸点等，严重影响蚀刻产品的表面品质。

4、容易导致蚀刻产品表面凹点和划伤等缺陷放大。

5、蚀刻过程速率不稳定，氢氟酸的利用率不高，导致后期中和废酸处理成本增加。以及高温下氢氟酸较容易挥发，增加安全隐患。

由此，为了抑制单一氢氟酸与二氧化硅的不稳定化学反应，提高蚀刻效率和改善蚀刻品质。业界通过在氢氟酸添加硫酸、硝酸等物质，来进一步改善液晶面板/玻璃基板的化学蚀刻过程。

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